Целевая цел для керамического распыления Цинковый сульфид Целевой материал

ZnS плоский целевой материал использует вакуумный процесс спекания горячим прессованием, который может быть произведен.

• Плотность: 4,0 г/см³
• Чистота: 99,99% - 99,999%

Широко используется в:

• Чипы полупроводниковые
• Терминальные солнечные фотоэлектрические установки
• Плоские дисплеи
• Специальные покрытия и другие отрасли

Различные керамические целевые материалы, производимые методом вакуумного горячего прессования, имеют передовые технологии и зрелые производственные процессы.

• Тонкопленочная солнечная энергия
• Плоские дисплеи
• Оптические покрытия
• Полупроводники
• Военная промышленность

Компания сотрудничает со многими известными университетами в стране и за рубежом, занимается исследованиями и разработкой новых материалов и процессов,и продолжает предоставлять различные высококачественные продукты и услуги для отечественных и зарубежных клиентов..