Поднос CMP кремниевого карбида

• CMP (химический механический блеск) в производстве обломока СИД, т.е., химическом механическом полируя процессе.

• Хорошая термальная проводимость, низкий коэффициент расширения и единообразие температуры.
• Сравненный с традиционным подносом корунда, сокращены загрузка и топление и время остывания разгружать, и эффективность работы улучшена. В то же время, она может уменьшить носку между верхними и более низкими плитами, поддержать хорошую плоскую точность и расширить срок службы около 40%.
• Материал имеет небольшие удельный вес и легковес, делая его легкий для операторов двинуть поднос несущей, уменьшающ риск повреждения столкновения причиненный трудной регуляцией около 20%.

• Смогите быть обработано согласно чертежам клиента, максимальному размеру: 500mm в диаметре, плоскостность: 0.003mm внутри.

Поднос CMP кремниевого карбида